真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜機一般是加熱靶材使表層組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表層，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表層組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表層，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

真空鍍膜機在真空環(huán)境中，將材料加熱并鍍到基片上的技術為真空蒸鍍。具體而言，真空鍍膜機是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基片表層析出的過程。真空蒸鍍中的鍍層通常為鋁膜，但其它鍍層也可通過蒸發(fā)沉積形成。然而，現(xiàn)有的鍍膜機結構較為復雜且成本較高，無法充分適應工業(yè)化生產(chǎn)的需求，不利于下降鍍膜產(chǎn)品的成本。

真空鍍膜機與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程當中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。