離子束加工技術(shù)的原理基本上類似于電子束處理的原理。同樣在真空條件下，由離子源產(chǎn)生的離子束被加速并聚焦，從而使其撞擊工件的表層。離子束處理裝置主要包括離子源，真空系統(tǒng)，控制系統(tǒng)和電源。

離子束處理的四種工作方法：

1.離子束濺射去除處理，即將被加速的離子聚焦成細(xì)束，并射到處理過的表層上。在加工過的表層被“轟擊”之后，原子或分子被射出以實現(xiàn)分子水平的去除加工。

2.離子束濺射鍍膜處理，即使用加速離子從目標(biāo)中噴射原子或分子，并將這些原子或分子附著到工件上以形成“涂層”。也稱為“干鍍”

3.離子束濺射注入處理，即用高能離子（數(shù)十萬KeV）轟擊工件表層，離子滲透到工件表層，電荷被中和并留在工件中（置換原子或填隙原子），從而改變工件的材料和特性。

4.用于大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的離子束曝光比電子束具有更高的靈敏度和分辨率。

離子束加工分類：

1.離子蝕刻或離子銑削：Ar離子傾斜轟擊工件，從而工件表層上的原子被一一剝落。

2.離子濺射沉積：Ar離子傾斜地轟擊某種材料的靶，將靶材料的原子擊倒后沉積在靶材料附近的工件上，并在其表層涂覆薄膜。

3.離子鍍或離子濺射輔助沉積：與離子濺射沉積的區(qū)別在于，它同時轟擊靶材和工件，目的是增強薄膜材料與工件基體之間的結(jié)合力。

4.離子注入：高能離子束直接轟擊加工后的材料，使工件的表層層中包含注入的離子，從而改變了工件表層的化學(xué)成分，從而改變了工件的物理，機械和化學(xué)性質(zhì)。工件的表層層滿足特殊領(lǐng)域的要求。