文章摘要: 硅片切割目前基本都是采用線切割的方法,加入SiC切割液,Si和SiC都是無毒的,但是一般硅錠會(huì)摻雜P、B、As等元素得到需要的硅片,所以切割廢液和廢芯片都有一定的毒性,但是毒性很低,因?yàn)殡s質(zhì)含量是切割iC硅片(晶圓)所用的非常非常低的工藝制成的?;蛘咛柲?
硅片切割目前基本都是采用線切割的方法,加入SiC切割液,Si和SiC都是無毒的,但是一般硅錠會(huì)摻雜P、B、As等元素得到需要的硅片,所以切割廢液和廢芯片都有一定的毒性,但是毒性很低,因?yàn)殡s質(zhì)含量是切割iC硅片(晶圓)所用的非常非常低的工藝制成的?;蛘咛柲芫懈?,因?yàn)橛幸恍﹫D形是由銅、鈦、鎳、鈷等制成的。在硅片切割通道中,而硅片本身也摻雜有P、B、As等。所以晶圓切割時(shí),有可能會(huì)加入切削液。
現(xiàn)在光伏產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展,發(fā)展迅速。硅片產(chǎn)能的快速增長必然造成硅片切削液需求的增加。但是,硅片切削液的問題依然突出,主要表現(xiàn)在以下五個(gè)方面:
1.硅片切割后表層TTV大,有絲痕:因?yàn)榍懈顣r(shí)硅片會(huì)脆裂或劃傷,影響硅片表層的粗糙度和翹曲,造成加工后硅片總厚度出現(xiàn)偏差。
2.耐酸耐腐蝕:由于硅片切割設(shè)備在酸性環(huán)境下會(huì)生銹腐蝕,質(zhì)量差的切削液會(huì)加劇腐蝕程度,所以如何防腐蝕防銹是判斷硅片切削液質(zhì)量的關(guān)鍵。
3.使用年限短:目前硅片切割液中使用的很多添加劑質(zhì)量較差,不利于切割后的清洗,從而縮短了碳化硅線的使用年限。
4.氫氣產(chǎn)生:硅片粉末在切割過程當(dāng)中,由于粒徑過細(xì),與水反應(yīng)會(huì)釋放出氫氣,長期生產(chǎn)積累會(huì)造成安全隱患。
5.生產(chǎn)成本高:目前很多切削液由于技術(shù)和使用方法的限制,無法循環(huán)使用,無形中增加了公司的運(yùn)營成本。由于這五個(gè)問題的客觀存在,很多硅片廠家陷入了困境。如果不可及時(shí)解決這個(gè)問題,不僅會(huì)嚴(yán)重影響生產(chǎn),還會(huì)制約公司的長遠(yuǎn)發(fā)展。
硅片切割切削液的問題主要表現(xiàn)在哪些方面?
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