? 拋光機操作的關(guān)鍵是盡量獲得較大的拋光速率，以便盡快去除拋光過程當(dāng)中產(chǎn)生的損傷層。同時拋光損傷層不得影響觀察到的組織，即不會造成假組織。 前者需要使用較粗的磨料，以保證較大的拋光速率才能去除拋光損傷層，但拋光損傷層也較深； 后者需要使用精細的材料，使拋光損傷層更淺，但拋光速率低。

? 解決這個矛盾的辦法就是把打磨分為兩個階段，粗拋光的目的是去除拋光后的損傷層。這個階段應(yīng)該有很大的拋光率。 粗拋造成的表層損傷是次要的考慮，但也應(yīng)盡量小； 二是精拋（或精拋）。 其目的是去除粗拋造成的表層損傷，將拋光損傷降到最低。

? 用拋光機拋光時，試樣的碾磨面與拋光盤應(yīng)平行，均勻地壓在拋光盤上。 注意避免樣品因壓力過大而飛出并產(chǎn)生新的磨損痕跡。 同時樣品應(yīng)沿轉(zhuǎn)盤半徑旋轉(zhuǎn)和前后移動，避免拋光織物局部磨損過快。 在拋光過程當(dāng)中，應(yīng)不斷加入微粉懸浮液，使拋光織物保持一定的濕度。 濕度過大會減弱拋光磨痕的作用，使試樣中的硬質(zhì)相出現(xiàn)壓花，鋼中的非金屬夾雜物和鑄鐵中的石墨相產(chǎn)生“拖尾”； 當(dāng)濕度過低時，摩擦和發(fā)熱會造成試樣溫度升高，潤滑效果下降，碾磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑點，輕合金會損壞表層。 為達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速低，不高于600r/min； 拋光時間應(yīng)大于去除劃痕所需的時間，因為變形層必須去除。 粗拋后，磨面光滑，但暗淡無光。 顯微鏡下有均勻細小的磨損痕跡，需精拋光消除。

? 精拋時可適當(dāng)提高轉(zhuǎn)盤速度，拋光時間適當(dāng)，以甩掉粗拋的損傷層。 精細拋光后，拋光面光亮如鏡，在顯微鏡明場下看不到劃痕，但在相差照明下仍能看到磨損痕跡。 拋光機的拋光質(zhì)量嚴重影響樣品的結(jié)構(gòu)，逐漸引起相關(guān)專家的重視。 國內(nèi)外對拋光機的性能做了大量的研究工作，開發(fā)了許多新機型和新一代拋光設(shè)備。 原來的手工操作正在發(fā)展成為各種半自動和全自動拋光機。