加工周期	最快12小時(shí)出貨	掩膜板材質(zhì)	不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名	掩膜板、光罩、mask、FMM	掩膜版加工精度	最小10um
掩膜版尺寸	最大600*600mm	掩膜版材質(zhì)厚度	最薄加工厚度0.03mm
特色要求	需要和客服具體溝通

華諾mask掩膜板,微米級(jí)加工掩膜版電話

掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn)：激光加工線條均勻、刺、無缺口
產(chǎn)品價(jià)格：以材料材質(zhì)、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定
加工能力：可大批量生產(chǎn)，每天生產(chǎn)高達(dá)1000平方米
樣品提供：付費(fèi)打樣，樣品3天內(nèi)，快出樣，量大可申請(qǐng)免費(fèi)樣品
批量生產(chǎn)時(shí)間：5-10個(gè)工作日
產(chǎn)品檢測(cè)及:二次元、影像儀
安全，美觀，環(huán)保的捆包方式，不間斷發(fā)貨，如需快遞可在48小時(shí)內(nèi)到達(dá)，于我司合作的快遞公司為國(guó)內(nèi)順豐快遞。

掩膜版切割主要應(yīng)用行業(yè)有LED芯片制造，觸摸屏，LCD，消費(fèi)類電子，半導(dǎo)體，MEMS，照明，等行業(yè)，以及科研、航天航空、電子、機(jī)械、光學(xué)、石油、化工、汽車、工藝品等行業(yè)。

掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn):
　　1，可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩模板圖形的任意更改，方便快捷成本低。
　　2，電極掩模板中小的縫隙可以達(dá)到0.03(30微米)，小線寬可做到0.015(15微米)。
　　3，位置精度高可達(dá)+/-0.003，解決一塊產(chǎn)品需多層蒸鍍，每層間的重復(fù)對(duì)位的位置精度。
　　4，材料厚度可由客戶，華諾精密長(zhǎng)期庫(kù)存材料從0.03-0.10，能為客戶提供快速穩(wěn)定的服務(wù)。

如何才能保證激光精密切割加工金屬掩膜板的好品質(zhì)？
1. 客戶要找到一家資質(zhì)齊全的金屬掩膜板激光精密切割加工廠。只有資質(zhì)齊全的激光精密切割工廠，相應(yīng)的設(shè)備，包括激光精密切割設(shè)備，紅外、紫外、綠光、二氧化碳等激光設(shè)備，二次元影像儀設(shè)備，無塵潔凈室等，以及的操作人員都很重要。
2. 體系是否完備？不要認(rèn)為ISO9001和ISO14001是個(gè)擺設(shè)，真正完全做到7S標(biāo)準(zhǔn)的工廠，永遠(yuǎn)都是規(guī)范整潔的工廠。就像客戶常和我們說的：一個(gè)規(guī)范整潔的工廠，相信做的產(chǎn)品也不會(huì)差到哪里去。
3. 客戶服務(wù)是否完備？服務(wù)客戶就是幫助客戶，服務(wù)客戶就是幫助客戶解決問題。積極提供各種解決方案，業(yè)務(wù)人員主動(dòng)提出解決問題的方案，是取得客戶信任的要件，不要一味的點(diǎn)頭，說是。主動(dòng)發(fā)現(xiàn)問題，預(yù)防問題才是做好相關(guān)產(chǎn)品的為根本的要件！
4. 細(xì)節(jié)有無到位？細(xì)節(jié)決定成??！激光精密切割加工的產(chǎn)品我們要保證每個(gè)細(xì)節(jié)，每個(gè)關(guān)鍵尺寸的準(zhǔn)確，檢測(cè)到位，保證符合客戶的工程圖紙的要求，不能馬虎了事。
5. 供應(yīng)商的穩(wěn)定性也是保證激光精密切割加工的品質(zhì)的重要一環(huán)。材料材質(zhì)穩(wěn)定有保證，是加工好產(chǎn)品的前提。華諾普銳斯的材料進(jìn)貨渠道都是正規(guī)大的鋼材壓延廠直供，材質(zhì)穩(wěn)定，環(huán)保達(dá)標(biāo)，萬不可為節(jié)省小成本，造成大失??！

華諾公司的金屬掩膜板主要以不銹鋼材質(zhì)為主,金屬掩膜板產(chǎn)品厚度從0.03到1.0,是目前金屬掩膜板產(chǎn)品主要加工商,我們提供金屬掩膜板的設(shè)計(jì)開發(fā).

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。