快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而消除晶圓或材料的部分缺點(diǎn)，提高產(chǎn)品性能。

??快速退火爐采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控溫，可達(dá)到較高的控溫精度和溫度均勻性，并可根據(jù)用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。

??快速退火爐主要由真空室、加熱室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、風(fēng)冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等組成。

??真空室：真空室是快速退火爐的工作空間，晶片在此進(jìn)行快速熱處理。

??加熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以耐高溫合金為框架，以高純石英為主體。

??進(jìn)氣系統(tǒng)：真空室末端有進(jìn)氣孔，采用精確控制的進(jìn)氣口，以滿足某些特殊工藝的用氣要求。

??真空系統(tǒng)：真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥，可有效保證腔體的真空度，同時(shí)避免氣體回流污染腔體內(nèi)已加工的工件。

??溫控系統(tǒng)：溫控系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電源調(diào)節(jié)器、可編程控制器、PC機(jī)及各種傳感器組成。

??風(fēng)冷系統(tǒng)：真空室的冷卻是通過進(jìn)風(fēng)系統(tǒng)向腔內(nèi)充入惰性氣體，以加速熱處理工件的冷卻，達(dá)到工藝要求。

??水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空室、加熱室、各部件密封圈的冷卻水。

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