加工周期	最快12小時出貨	掩膜板材質(zhì)	不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名	掩膜板、光罩、mask、FMM	掩膜版加工精度	最小10um
掩膜版尺寸	最大600*600mm	掩膜版材質(zhì)厚度	最薄加工厚度0.03mm
特色要求	需要和客服具體溝通

304不銹鋼密集孔矩陣掩模板

激光加工掩膜版主要有以下特的優(yōu)點(diǎn)：
1、生產(chǎn)效率高，質(zhì)量可靠，經(jīng)濟(jì)效益。
2、激光加工過程中無“”磨損，無“切削力”作用于工件。
3、可以對多種金屬、非金屬加工，特別是可以加工高硬度、高脆性及高熔點(diǎn)的材料。
4、激光束易于導(dǎo)向、聚焦實(shí)現(xiàn)作各方向變換，極易與數(shù)控系統(tǒng)配合、對復(fù)雜工件進(jìn)行加工，因此它是一種極為靈活的加工方法。
5、無接觸加工，對工件無直接沖擊。
6、熱影響區(qū)小，工件熱變形小，后續(xù)加工量小。

掩膜版激光加工產(chǎn)品技術(shù)：
1，原材料：
原材料生產(chǎn)出的掩模板平整度高線條筆直，剌。華諾精密經(jīng)營掩模板多年，建立完整的原材料進(jìn)貨渠道。
2，加工設(shè)備：
根據(jù)客戶產(chǎn)品的精度要求和圖形形狀，選擇相匹配的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)，確保滿足客戶要求。華諾精密生產(chǎn)設(shè)備齊全，各設(shè)備工藝之間能配合。
3，生產(chǎn)技術(shù)：
再好的設(shè)備都是人來操作的，機(jī)器各參數(shù)之間的調(diào)配，軟硬件之間的配合，都是技術(shù)的，同樣的機(jī)器交給不同技術(shù)的廠家，生產(chǎn)出產(chǎn)品質(zhì)量完全不一樣的。華諾精密有著7年的掩模板生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，對機(jī)器硬件的調(diào)試和軟件的更改有著一套完善的技術(shù)儲備。

如何才能保證激光精密切割加工金屬掩膜板的好品質(zhì)？
1. 客戶要找到一家資質(zhì)齊全的金屬掩膜板激光精密切割加工廠。只有資質(zhì)齊全的激光精密切割工廠，相應(yīng)的設(shè)備，包括激光精密切割設(shè)備，紅外、紫外、綠光、二氧化碳等激光設(shè)備，二次元影像儀設(shè)備，無塵潔凈室等，以及的操作人員都很重要。
2. 體系是否完備？不要認(rèn)為ISO9001和ISO14001是個擺設(shè)，真正完全做到7S標(biāo)準(zhǔn)的工廠，永遠(yuǎn)都是規(guī)范整潔的工廠。就像客戶常和我們說的：一個規(guī)范整潔的工廠，相信做的產(chǎn)品也不會差到哪里去。
3. 客戶服務(wù)是否完備？服務(wù)客戶就是幫助客戶，服務(wù)客戶就是幫助客戶解決問題。積極提供各種解決方案，業(yè)務(wù)人員主動提出解決問題的方案，是取得客戶信任的要件，不要一味的點(diǎn)頭，說是。主動發(fā)現(xiàn)問題，預(yù)防問題才是做好相關(guān)產(chǎn)品的為根本的要件！
4. 細(xì)節(jié)有無到位？細(xì)節(jié)決定成??！激光精密切割加工的產(chǎn)品我們要保證每個細(xì)節(jié)，每個關(guān)鍵尺寸的準(zhǔn)確，檢測到位，保證符合客戶的工程圖紙的要求，不能馬虎了事。
5. 供應(yīng)商的穩(wěn)定性也是保證激光精密切割加工的品質(zhì)的重要一環(huán)。材料材質(zhì)穩(wěn)定有保證，是加工好產(chǎn)品的前提。華諾普銳斯的材料進(jìn)貨渠道都是正規(guī)大的鋼材壓延廠直供，材質(zhì)穩(wěn)定，環(huán)保達(dá)標(biāo)，萬不可為節(jié)省小成本，造成大失?。?br/>
華諾公司的金屬掩膜板主要以不銹鋼材質(zhì)為主,金屬掩膜板產(chǎn)品厚度從0.03到1.0,是目前金屬掩膜板產(chǎn)品主要加工商,我們提供金屬掩膜板的設(shè)計(jì)開發(fā).

金屬掩膜板：
在AMOLED制作工藝中，蒸鍍工藝是非常重要的，直接決定產(chǎn)品的良率，而金屬掩膜板又是非常重要的蒸鍍制具，其開口的精度和位置精度直接決定了AMOLED生產(chǎn)的品質(zhì)。金屬掩膜板根據(jù)其用途又可分為兩類：OPEN MASK和FINE METAL MASK（FMM）。OPEN MASK作為普通蒸鍍制具，決定顯示屏的尺寸和在基板上的位置。FMM作為彩色蒸鍍制具，更是決定了顯示畫面的質(zhì)量。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。