華諾mask掩膜板,鍍膜蒸鍍掩膜版價(jià)格

500元2022-11-16 16:45:08
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
  • 掩膜版價(jià)格,不銹鋼精密掩膜版,金屬蒸鍍掩模版,不銹鋼金屬狹縫掩膜版
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北京華諾恒宇光能科技有限公司

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加工周期 最快12小時(shí)出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶(hù)要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩膜板,鍍膜蒸鍍掩膜版價(jià)格

掩膜版切割主要應(yīng)用行業(yè)有LED芯片制造，觸摸屏，LCD，消費(fèi)類(lèi)電子，半導(dǎo)體，MEMS，照明，等行業(yè)，以及科研、航天航空、電子、機(jī)械、光學(xué)、石油、化工、汽車(chē)、工藝品等行業(yè)。


本公司承接各種圖案定制，客戶(hù)能提供包含尺寸的CA設(shè)計(jì)圖。如果畫(huà)圖實(shí)在有困難，我們可以根據(jù)客戶(hù)描述來(lái)繪制，同時(shí)我們還能對(duì)客戶(hù)的掩膜版設(shè)計(jì)提供一些建議。

光刻掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備，如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

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