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0.01mm不銹鋼方形陣列掩模板

500元2022-11-18 08:16:53
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
  • 掩膜版電話,科研高精度密集孔矩陣光罩 MASK,0.01mm不銹鋼密集孔矩陣掩膜板,不銹鋼密集孔矩陣掩模版
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北京華諾恒宇光能科技有限公司

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加工周期 最快12小時(shí)出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

0.01mm不銹鋼方形陣列掩模板

掩膜版材料及厚度的選?。?br /> 材質(zhì)的選取方面,我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料,這樣做出來的掩膜版不但精度高,而且表面光滑,產(chǎn)品不易受彎折而變形,經(jīng)久耐用,同時(shí)還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合,減少陰影效果。


掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn):
  1,可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩模板圖形的任意更改,方便快捷成本低。
  2,電極掩模板中小的縫隙可以達(dá)到0.03(30微米),小線寬可做到0.015(15微米)。
  3,位置精度高可達(dá)+/-0.003,解決一塊產(chǎn)品需多層蒸鍍,每層間的重復(fù)對(duì)位的位置精度。
  4,材料厚度可由客戶,華諾精密長(zhǎng)期庫存材料從0.03-0.10,能為客戶提供快速穩(wěn)定的服務(wù)。

激光加工掩膜版主要有以下特的優(yōu)點(diǎn):
1、生產(chǎn)效率高,質(zhì)量可靠,經(jīng)濟(jì)效益。
2、激光加工過程中無“”磨損,無“切削力”作用于工件。
3、可以對(duì)多種金屬、非金屬加工,特別是可以加工高硬度、高脆性及高熔點(diǎn)的材料。
4、激光束易于導(dǎo)向、聚焦實(shí)現(xiàn)作各方向變換,極易與數(shù)控系統(tǒng)配合、對(duì)復(fù)雜工件進(jìn)行加工,因此它是一種極為靈活的加工方法。
5、無接觸加工,對(duì)工件無直接沖擊。
6、熱影響區(qū)小,工件熱變形小,后續(xù)加工量小。

掩膜版激光加工產(chǎn)品技術(shù):
1,原材料:
原材料生產(chǎn)出的掩模板平整度高線條筆直,剌。華諾精密經(jīng)營掩模板多年,建立完整的原材料進(jìn)貨渠道。
2,加工設(shè)備:
根據(jù)客戶產(chǎn)品的精度要求和圖形形狀,選擇相匹配的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn),確保滿足客戶要求。華諾精密生產(chǎn)設(shè)備齊全,各設(shè)備工藝之間能配合。
3,生產(chǎn)技術(shù):
再好的設(shè)備都是人來操作的,機(jī)器各參數(shù)之間的調(diào)配,軟硬件之間的配合,都是技術(shù)的,同樣的機(jī)器交給不同技術(shù)的廠家,生產(chǎn)出產(chǎn)品質(zhì)量完全不一樣的。華諾精密有著7年的掩模板生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),對(duì)機(jī)器硬件的調(diào)試和軟件的更改有著一套完善的技術(shù)儲(chǔ)備。

光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備,如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。

激光加工掩膜板的原理
激光加工是利用光的能量經(jīng)過透鏡聚焦后在焦點(diǎn)上達(dá)到很高的能量密度,靠光熱效應(yīng)來加工的。 激光加工不需要工具、加工速度快、表面變形小,可加工各種材料。用激光束對(duì)材料進(jìn)行各種加工,如打孔、切割、劃片、焊接、熱處理等。 某些具有亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)的物質(zhì),在外來光子的激發(fā)下會(huì)吸收光能,使處于高能級(jí)原子的數(shù)目大于低能級(jí)原子的數(shù)目——粒子數(shù)反轉(zhuǎn),若有一束光照射,光子的能量等于這兩個(gè)能相對(duì)應(yīng)的差,這時(shí)就會(huì)產(chǎn)生受激,輸出大量的光能。

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