華諾mask掩模版,金屬狹縫光罩 MASK

加工周期	最快12小時(shí)出貨	掩膜板材質(zhì)	不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名	掩膜板、光罩、mask、FMM	掩膜版加工精度	最小10um
掩膜版尺寸	最大600*600mm	掩膜版材質(zhì)厚度	最薄加工厚度0.03mm
特色要求	需要和客服具體溝通

華諾mask掩模版,金屬狹縫光罩 MASK

掩膜版切割主要應(yīng)用行業(yè)有LED芯片制造，觸摸屏，LCD，消費(fèi)類電子，半導(dǎo)體，MEMS，照明，等行業(yè)，以及科研、航天航空、電子、機(jī)械、光學(xué)、石油、化工、汽車、工藝品等行業(yè)。

掩膜版材料及厚度的選?。?br /> 材質(zhì)的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來(lái)的掩膜版不但精度高，而且表面光滑，產(chǎn)品不易受彎折而變形，經(jīng)久耐用，同時(shí)還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。

本公司承接各種圖案定制，客戶能提供包含尺寸的CA設(shè)計(jì)圖。如果畫圖實(shí)在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來(lái)繪制，同時(shí)我們還能對(duì)客戶的掩膜版設(shè)計(jì)提供一些建議。

掩膜版激光加工產(chǎn)品技術(shù)：
1，原材料：
原材料生產(chǎn)出的掩模板平整度高線條筆直，剌。華諾精密經(jīng)營(yíng)掩模板多年，建立完整的原材料進(jìn)貨渠道。
2，加工設(shè)備：
根據(jù)客戶產(chǎn)品的精度要求和圖形形狀，選擇相匹配的設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)，確保滿足客戶要求。華諾精密生產(chǎn)設(shè)備齊全，各設(shè)備工藝之間能配合。
3，生產(chǎn)技術(shù)：
再好的設(shè)備都是人來(lái)操作的，機(jī)器各參數(shù)之間的調(diào)配，軟硬件之間的配合，都是技術(shù)的，同樣的機(jī)器交給不同技術(shù)的廠家，生產(chǎn)出產(chǎn)品質(zhì)量完全不一樣的。華諾精密有著7年的掩模板生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，對(duì)機(jī)器硬件的調(diào)試和軟件的更改有著一套完善的技術(shù)儲(chǔ)備。

金屬掩膜板：
在AMOLED制作工藝中，蒸鍍工藝是非常重要的，直接決定產(chǎn)品的良率，而金屬掩膜板又是非常重要的蒸鍍制具，其開口的精度和位置精度直接決定了AMOLED生產(chǎn)的品質(zhì)。金屬掩膜板根據(jù)其用途又可分為兩類：OPEN MASK和FINE METAL MASK（FMM）。OPEN MASK作為普通蒸鍍制具，決定顯示屏的尺寸和在基板上的位置。FMM作為彩色蒸鍍制具，更是決定了顯示畫面的質(zhì)量。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。